利用期間 | 平成26年10月~平成27年3月 |
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申込期限 |
平成26年6月27日(金)17:00締切
申込は終了しました。 |
受入れの可否 | 利用状況及び申込書の研究計画等を検討の上、当該研究施設の長が決定します。 |
施設利用日数 |
1回の利用日数は原則として7日以内とします。 利用状況、研究計画等を勘案し、利用日数を短縮していただくことがあります。 |
利用方法 | 各利用設備責任者の指示に従って利用許可の範囲内で利用してください。 |
利用報告 |
施設利用実施報告書を、平成27年3月31日までに機器センター長へ提出していただきます。また、「分子研レターズ」「機器センターたより」に成果報告をお願いすることがあります。 |
放射線業務従事 承認書の提出 |
単結晶X線回折装置・粉末X線回折装置・X線溶液散乱装置・蛍光X線分析装置を使用する場合は、申込書と併せて別紙様式第4号の承認書を郵送にて提出してください。なお、従事期間は、個々に区切らず全体を包括するよう設定してください。 |
電子スピン共鳴装置
[ナノ] Bruker EMX Plus
[ナノ] Bruker E500
[ナノ] Bruker E680
SQUID型磁化測定装置
[ナノ] Quantum Design MPMS-7
[ナノ] Quantum Design MPMS-XL7
単結晶X線回折装置
Rigaku MERCURY CCD-1 R-AXIS IV
Rigaku MERCURY CCD-2
微小結晶/Rigaku MERCURY CCD-3
粉末X線回折装置
Rigaku RINT-UltimaIII
X線溶液散乱装置
[ナノ] Rigaku NANO-Viewer
熱分析装置
TA Instruments TGA2950, DSC2920, SDT2960
MicroCal VP-DSC
MicroCal iTC200
マトリックス支援レーザー脱離イオン化-飛行時間型質量分析計
Applied Biosystems Voyager DE-STR
蛍光X線分析装置
JEOL JSX-3400RⅡ
核磁気共鳴装置
JEOL JNM-LA500
JNM-ECA600
[ナノ]JEOL JNM-ECA920
[ナノ]Bruker AVANCE 800
[ナノ]Bruker AVANCE 600
ピコ秒レーザー
Spectra-Physics,Quantronix Millennia-Tsunami,TITAN-TOPAS
ナノ秒レーザー
エキシマー励起色素レーザー/ LAMBDA PHYSIK Compex Pro 110
Nd:YAG励起OPOレーザー/Spectra-Physics GCR-250 ScanmateOPPO
フッ素系エキシマーレーザー/LAMBDA PHYSIK Compex110F
蛍光分光光度計
HORIBA SPEX Fluorolog3-21
円二色性分散計
JASCO J-720WI
可視紫外分光光度計
Hitachi U-3500
顕微ラマン分光装置
[ナノ]RENISHAW in Via Reflex
フーリエ変換赤外分光光度計
[ナノ]Bruker IFS66v
X線光電子分光装置
[ナノ]Omicron EA-125
電子顕微鏡
*[ナノ]高分解能透過電子顕微鏡(TEM)/JEOL JEM-3100FEF
*[ナノ]集束イオンビーム(FIB)/JEOL JEM-9310FIB
*[ナノ]走査電子顕微鏡(SEM)/JEOL JSM-6700F
[ナノ]低真空電界放射走査電子顕微鏡(SEM)/Hitachi SU6600
上記の機器を利用した測定の際に、寒剤(液体窒素・液体ヘリウム)の利用が可能です。
[ナノ]の表示のある機器を一つでも利用する場合は、文部科学省「ナノテクノロジープラットフォーム事業」としての取扱いとなります。共同利用申請システムの申請メニュー「機器センター施設利用(ナノテクノロジープラットフォーム)から申請してください。
詳細は、ホームページ(http://nanoims.ims.ac.jp/ims/)をご覧ください。
*TEM、FIB、SEMは、技術代行としての利用も可能です。申請書にその旨の記載をお願いします。