（注１）装置開発室の施設利用設備は、以下のリンクから確認してください。
( http://edcweb.ims.ac.jp/equipment.html )
（注２）以下の設備は、（Ｈ）②装置開発室施設利用（マテリアル先端リサーチインフラ）での利用のみとなりますので、ご注意ください。
・マスクレス露光装置（ナノシステムソリューションズDL-1000）
・電子ビーム描画装置（エリオニクス ELS-G100）
・スピンコーター（MS-A100）
・段差計（KLA-Tencor P7）
・３次元光学プロファイラーシステム（ZYGO NexView）
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利用期間 |
２０２４年４月～２０２５年３月の間で随時申請を受け付けます。 |
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採否 |
利用状況及び研究計画等を検討の上、当該研究施設の長が決定します。 |
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施設利用日数 |
１回の利用日数は原則として７日以内とします。 |
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利用方法 |
各利用設備責任者の指示に従って利用許可の範囲内で利用してください。 |
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報告書 |
申請者は、利用期間終了後３０日以内に施設利用実施報告書をＮＯＵＳから提出していただきます。なお、報告書は分子研ホームページなどで公開されます。「Annual Report」に成果報告をお願いすることがあります。 共同利用研究者全員に、所属先、職名、氏名情報等の情報が公開されることの了承を得てください。承認が得られなかった場合には、所定の実施報告書の提出に加えて、公開不可の情報を黒塗り、墨消し等で削除した「報告書（公開用）」を別途提出してください。 |
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装置開発室の |
装置開発室では以下に示す設備を保有しております。申請者は以下の装置をご自身で操作して利用することができます。 ・NCフライス盤（マキノ AEV-74） ・CNC旋盤（Mazak SQT100MY） ・ワイヤー放電加工機（ファナック α-C400iB） ・形彫NC放電加工機（ソデック A35R） ・3D測定顕微鏡（オリンパス STM6DF） ・走査型電子顕微鏡（キーエンス VE-8800） ・非接触三次元測定装置（三鷹 NH-3SP） ・一般工作機械
〔エレクトロニクス・セクション〕 ・プリント基板加工機（ACCURATE A427A） ・ネットワーク/スペクトラム/インピーダンス・アナライザ（アジレントテクノロジー 4396B） ・ロジック・アナライザ（テクトロニクス TLA5201） ・デジタルオシロスコープ（レクロイ 6200A） ・LCRメータ（NF ZM2353） ・ファンクション・ジェネレータ（テクトロニクス AFG3251） ・直流電圧・電流源（エーディーシー 6243）
〔リソグラフィ・セクション〕 ・マイクロスコープ（キーエンス VHX-1000） ・小型2源RFスパッタ装置(クライオバック RSP-4-RF3×2) ・マスクアライナ（MA-10） ・酸素プラズマ装置（PR200,PDC-001-HP,PPC-32G） |
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装置開発室の |
自然科学研究機構分子科学研究所装置開発室装置等製作受託規則に基づき、製作依頼の申請ができます。 以下の装置開発室のホームページを参考にしてください。 |
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研究成果の発表 |
共同利用研究の成果を発表される場合には、本研究所共同利用研究によった旨を付記してください。 （和文）本研究は、２０２４年度自然科学研究機構分子科学研究所装置開発室施設利用（課題番号：***）の助成を受けたものである。 （英文）A part of this work was performed with the aid of Equipment Development Center, Institute for Molecular Science (IMS program ***). 「***」は課題番号（採択通知に記載します。） 分子研ホームページに例文を記載していますので、以下のリンクよりご確認ください。 ( https://www.ims.ac.jp/guide/shaji.html )
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