分子科学研究所

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共同研究・施設利用案内

(H)②装置開発室施設利用(マテリアル先端リサーチインフラ)公募要項【通年の随時申請のみ】

2026年度(通年・前期)共同利用研究公募要項へもどる

(注1)装置開発室の施設利用設備は、以下のリンクから確認してください。
    ( http://edcweb.ims.ac.jp/equipment.html )

(注)以下のリンクに掲載されている研究機器を使用することを確認のうえ申請してください。掲載されていない研究機器を利用する協力研究を行う場合には、(H)①装置開発室施設利用に申請してください。
申請を間違えますと、採択はできませんので、必ずご確認をお願いします。
( https://arim.ims.ac.jp/howtouse/list/ )

利用期間

2026年4月~2027年3月の間で随時申請を受け付けます。

採否

利用状況及び研究計画等を検討の上、当該研究施設の長が決定します。

施設利用日数

1回の利用日数は原則として7日以内とします。利用状況、研究計画等を勘案し、利用日数を短縮していただくことがあります。

利用方法

各利用設備責任者の指示に従って利用許可の範囲内で利用してください。

報告書

文部科学省「マテリアル先端リサーチインフラ事業」の利用報告書を年度末に分子研マテリアルスポークへ提出していただきます。

 なお、報告書は分子研ホームページなどで公開されます。

また、「分子研レターズ」や装置開発室「Annual Report」に成果報告をお願いすることがあります。

共同利用研究者全員に、所属先、職名、氏名情報等の情報が公開されることの了承を得てください。承認が得られなかった場合には、所定の実施報告書の提出に加えて、公開不可の情報を黒塗り、墨消し等で削除した「報告書(公開用)」を別途提出してください。

装置開発室の
設備利用

装置開発室施設利用(マテリアル先端リサーチインフラ)では以下に示す設備を利用可能です。申請者は以下の装置をご自身で操作して利用することができます。

主な設備備品
〔リソグラフィ・セクション〕

  • マスクレス露光装置
    (ナノシステムソリューションズDL-1000)
  • スピンコーター(MS-A100)
  • 段差計(KLA-Tencor P7)
  • 3次元光学プロファイラーシステム(ZYGO NexView)
  • 電子ビーム描画装置(エリオニクス ELS-G100)

研究成果の発表

マテリアル先端リサーチインフラ事業を利用した成果報告(論文等)には、謝辞の記載をお願いしています。

事業のホームページに例文を記載していますので、以下のリンクよりご確認ください。

( https://arim.ims.ac.jp/acknowledgments/ )

その他

装置開発室施設利用(マテリアル先端リサーチインフラ)は、文部科学省「マテリアル先端リサーチインフラ」事業としての取扱いとなります。

詳細は、ホームページ( https://arim.ims.ac.jp/ )をご覧ください。

申請者及び本申請における利用者全員は、文部科学省「マテリアル先端リサーチインフラ」事業における共用設備の利用等にあたり、マテリアル先端リサーチインフラ施設及び設備利用約款に承諾していただく必要があります。 

また、申請者は、申請にあたって材料データプラットフォーム(DICE)のアカウントを取得していただく必要があります。
( https://dice.nims.go.jp/usage.html )

*原則として、NOUS登録と同じメールアドレスにしてください。事情がある場合は、マテリアル事務室にご相談ください。