分子科学研究所

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共同研究・施設利用案内

(F) UVSOR施設利用 公募要項

平成30年度共同利用研究(前期)公募要項へもどる

申込み 申込みに当たっては、所内の担当者と十分協議してください。別紙様式6の記入に当たっては、課題名及び実施計画を具体的にお書きください。必要なマシンタイム(週数)の算出も行ってください。

実施可能期間は、前期が6月第1週から9月の第4週まで、後期が10月第1週から3月第5週まで(年末年始を除く)の予定です。
なお、通年申請は、研究上の必要性が認められ、且つ、ビームタイムに余裕のある場合にのみ採択されます。これに該当しない場合には、通年申請であっても後期分について改めて全体で審査を行い採択を決定します。
採 否 研究所長の定めるところにより施設長が決定します。
なお、後期の実施計画については後期施設利用公募締切後に決定します。
実施方法 研究計画実施に当たっても、事前に所内の担当者と十分協議してください。課題審査基準の詳細につきましては、ホームページ(https://www.uvsor.ims.ac.jp/about/kizyun.html)をご覧ください。(場合によっては、申請された研究実施計画を変更させていただくことがあります。)
 研究報告 研究終了後30日以内に所定の研究報告書を所長へ提出していただきます。
また、平成31年3月31日までに所定の英文Activity Reportを提出していただきます。


 

利用できる測定装置(観測システム)担当者:田中清尚、加藤政博

標準的な測定装置(測定槽、エレクトロニクス等)は用意しますが、それ以外は使用者の持ち込みとなります。

① BL1B・・・・・テラヘルツ固体吸収反射分光装置
         〔フーリエテラヘルツ干渉計 0.5~30 meV〕
② BL3U・・・・・高輝度気体・液体・固体内殻分光装置
         〔不等刻線平面回折格子分光器 60~800 eV〕
③ BL3B・・・・・真空紫外固体吸収・発光分光装置
         〔2.5m直入射分光器 2~30 eV〕
④ BL4U・・・・・走査型透過軟X線顕微鏡装置(STXM)
         〔不等刻線平面回折格子分光器  100~700 eV〕
⑤ BL4B・・・・・気体分光・固体分光装置(XMCD以外,XMCD※)
         〔不等刻線平面回折格子分光器  25~900 eV〕
⑥ BL5U・・・・・高輝度固体・表面光電子分光装置
         〔不等刻線平面回折格子分光器 20~200 eV〕
⑦ BL5B・・・・・機器較正装置
         〔平面回折格子分光器 5~600 eV〕
⑧ BL6B・・・・・赤外・テラヘルツ顕微分光装置
         〔フーリエ赤外干渉計 5 meV~4 eV〕
⑨ BL7U・・・・・高分解能真空紫外角度分解光電子分光装置
         〔Wadsworth型分光器  6~40 eV〕
⑩ BL7B・・・・・高分解能真空紫外固体分光装置
         〔3m直入射分光器 1.2~30 eV〕
⑪ BL8A・・・・・軟X線固体吸収分光・光電子分光装置
         〔集光型二結晶分光器 830~4000 eV〕
         (装置移設のため、8月より利用可能予定。)
⑫ 加速器装置・・・入射器、光源リング等

(注)以下の装置は(B)協力研究で利用できるものです。( )内は担当者です。
① BL1U・・・・・コヒーレント放射光実験装置(加藤政博)
  
② BL6U・・・・・高分解能角度分解光電子分光装置(解良聡)
         〔不等刻線平面回折格子分光器 40~450 eV〕

※X線磁気円二色性分光(XMCD BL4B)を使用する場合は、文部科学省「ナノテクノロジープラットフォーム」事業(放射光利用支援)としての取扱いとなります。[ナノテクノロジープラットフォーム]用の申請メニューより申請してください。詳細は、ホームページ
詳細は、ホームページ(http://nanoims.ims.ac.jp/ims/index.html)をご覧ください。
 

■その他
  各観測システムやUVSOR利用方法の詳細をお知りになりたい方は、
「UVSOR施設ガイドブック」」
 (https://www.uvsor.ims.ac.jp/guidebook/uvsorguide.pdf)をご覧ください。
また、ホームページ(https://www.uvsor.ims.ac.jp/)でも最新の情報が得られます。