青山正樹氏が平成23年度日本化学会化学技術有功賞を受賞

お知らせ詳細

2012/03/07

受賞

分子科学研究所の青山正樹氏が平成23年度日本化学会化学技術有功賞を受賞しました。会員約3万2千名のわが国最大の化学の学会である日本化学会は、装置・器具の開発・改良、特殊技能などにより、特に貢献があり、化学および化学技術に関連する研究支援の業務をもっぱらとする者に対し、毎年若干名を学術賞の対象としています(本年は3名受賞)。青山氏は、分子科学研究所装置開発室において、超精密切削加工、ナノインプリント加工、フェムト秒レーザー加工などの先端的な加工技術を、分子科学分野における実験機器の製作に導入し、革新性の高い研究の推進や効率化に貢献したと評価され、このたび「分子科学研究のための先端加工技術による実験機器の製作」に対して本賞が授与されました。

授賞式は、日本化学会第92春季年会・会期中の2012年3月26日に慶応大学日吉キャンパスに於いて行われます。

受賞一覧イベント・セミナー

サイト内検索

分子研のプロフィール

分子研の取り組み・研究支援組織

分子研の研究

研究会・セミナー

アクティビティ

申請概要

共同研究受入研究室・利用装置一覧

WEB申請

大学院案内

受験生向け情報

講演・見学

読物・動画・アウトリーチ

入国準備・スタートアップ

住宅・日常生活・家族

サイト内検索

分子研について

研究情報

共同利用案内

大学院

広報活動

Life@Okazaki

お知らせ

お知らせ詳細

青山正樹氏が平成23年度日本化学会化学技術有功賞を受賞

関連リンク