2月9日(金) |
テーマ2:フォトリソグラフィー
「微細加工技術~ゾーンプレートの製作を考える~」 |
9:00-9:05 はじめに(テーマ2についての説明) |
基礎セミナー |
9:05-9:20 |
「リソグラフィ技術の紹介」(北海道大学 笠晴也) |
講演1 |
9:20-9:40 |
「軟X線領域用ゾーンプレート製作への期待」
(分子科学研究所 大東琢治) |
9:40-10:00 |
「硬X線用フレネルゾーンプレートの利用と求められる性能」(SPring-8 竹内晃久) |
10:00-10:10 休憩 |
講演2 |
10:10-10:30 |
「リフトオフによるゾーンプレートの製作」
(分子科学研究所 高田紀子) |
10:30-10:50 |
「新規位相差コントラスト電顕法のための電子線フレネルゾーンプレートのFIB加工」
(生理学研究所 富田雅人) |
10:50-11:10 |
「エッチングによるゾーンプレート製作の可能性-そのメリットとデメリット-」(東京工業大学 松谷晃宏) |
11:10-11:20 休憩 |
11:20-12:10 |
テーマディスカッション(フォトリソグラフィー) |
12:10-13:10 昼休憩 |
テーマ3:「次世代へ継ぐ基盤技術」 |
13:10-14:10 |
パネルディスカッション
(座長:東京大学生産技術研究所 谷田貝悦男)
※パネリスト
岡田則夫(JAXA先端工作技術グループ/国立天文台)
大渕喜之(国立天文台 先端技術センター)
小林和宏(名古屋大学 全学技術センター)
武田洋一(岩手大学 高度試作加工センター)
涌井勇輔(東京大学 生産技術研究所) |
14:10-15:40 |
フリーディスカッション
(座長:国立天文台 鈴井光一) |