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共同研究・施設利用案内

2022年度(H)装置開発室施設利用 公募要項

2022年度共同利用研究(通年・前期)公募要項へもどる

 

受入れの可否 利用状況及び研究計画等を検討の上、当該研究施設の長が決定します。
施設利用日数 1回の利用日数は原則として7日以内とします。
利用状況、研究計画等を勘案し、利用日数を短縮していただくことがあります。
利用方法 各利用設備責任者の指示に従って利用許可の範囲内で利用してください。
利用報告 施設利用実施報告書を、申請期間終了までに装置開発室長へ提出していただきます。なお、報告書は分子研ホームページなどで公開されます。
一部の課題については、「Annual Report」に成果報告をお願いすることがあります。
装置開発室の
設備利用

装置開発室では以下に示す設備を保有しております。申請者は以下の装置をご自身で操作して利用することができます。

主な設備備品
〔メカトロニクス・セクション〕

  • マシニングセンター(マキノ BN1-85)

  • NCフライス盤(マキノ AEV-74)
  • CNC旋盤(Mazak SQT100MY)
  • ワイヤー放電加工機(ファナック α-C400iB)
  • 形彫NC放電加工機(ソデック A35R)
  • 3D測定顕微鏡(オリンパス STM6DF)
  • 走査型電子顕微鏡(キーエンス VE-8800)
  • 非接触三次元測定装置(三鷹 NH-3SP)
  • 一般工作機械

〔エレクトロニクス・セクション〕
  • プリント基板加工機(ACCURATE A427A)
  • ネットワーク/スペクトラム/インピーダンス・アナライザ(アジレントテクノロジー 4396B)
  • ロジック・アナライザ(テクトロニクス TLA5201)

  • デジタルオシロスコープ(レクロイ 6200A)
  • LCRメータ(NF ZM2353)
  • ファンクション・ジェネレータ(テクトロニクス AFG3251)
  • 直流電圧・電流源(エーディーシー 6243)

〔リソグラフィ・セクション〕

  • [マテリアル]マスクレス露光装置(ナノシステムソリューションズDL-1000)
  • [マテリアル]電子ビーム描画装置(エリオニクス ELS-G100)
  • [マテリアル]スピンコーター(MS-A100)
  • [マテリアル]段差計(KLA-Tencor P7)
  • [マテリアル]3次元光学プロファイラーシステム(ZYGO NexView)
  • マイクロスコープ(キーエンス VHX-1000)
  • 小型2源RFスパッタ装置(クライオバック RSP-4-RF3×2)
  • マスクアライナ(MA-10)
  • 酸素プラズマ装置(PR200,PDC-001-HP,PPC-32G)

※[マテリアル]の表示のない機器は「装置開発施設利用」で申請してください。
※[マテリアル]の表示のある機器を一つでも利用する場合は、文部科学省「マテリアル先端リサーチインフラ事業」となります。
詳細は、ホームページ(https://www.arim-ims.com/)【準備中】をご覧ください。

装置開発室の
開発・
製作依頼
自然科学研究機構分子科学研究所装置開発室装置等製作受託規則に基づき、製作依頼の申請ができます。
以下のURLを参考にしてください。
http://edcweb.ims.ac.jp/user.html#tab3