分子科学研究所

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共同研究・施設利用案内

(H)②装置開発室施設利用(マテリアル先端リサーチインフラ)【通年区分の随時申請のみ】

2023年度共同利用研究(通年・前期)公募要項へもどる 公募事項一覧はこちら(PDF)

 

(注)以下のリンクに掲載されている研究機器を使用することを確認のうえ申請してください。掲載されていない研究機器を利用する協力研究を行う場合には、(H)①装置開発室施設利用に申請してください。申請を間違えますと、採択はできませんので、必ずご確認をお願いします。(https://arim.ims.ac.jp/howtouse/list/)

 

受入れの可否 利用状況及び研究計画等を検討の上、当該研究施設の長が決定します。
施設利用日数 1回の利用日数は原則として7日以内とします。
利用状況、研究計画等を勘案し、利用日数を短縮していただくことがあります。
利用方法 各利用設備責任者の指示に従って利用許可の範囲内で利用してください。
報告書

文部科学省「マテリアル先端リサーチインフラ事業」の成果報告書を年度末に機器センター(マテリアル事務室)へ提出していただきます。なお、報告書は分子研ホームページなどで公開されます。

また、「分子研レターズ」や装置開発室「Annual Report」に成果報告をお願いすることがあります。

 

 

装置開発室の
設備利用

装置開発室施設利用(マテリアル先端リサーチインフラ)では以下に示す設備を利用可能です。申請者は以下の装置をご自身で操作して利用することができます。

 

主な設備備品
〔リソグラフィ・セクション〕
・マスクレス露光装置(ナノシステムソリューションズDL-1000)
・電子ビーム描画装置(エリオニクス ELS-G100)
・スピンコーター(MS-A100)
・段差計(KLA-Tencor P7)
・3次元光学プロファイラーシステム(ZYGO NexView)

研究成果の発表

マテリアル先端リサーチインフラ事業を利用した成果報告(論文等)には、謝辞の記載をお願いしています。

事業のホームページに例文を記載していますので、以下のリンクよりご確認ください。
(https://arim.ims.ac.jp/acknowledgments/)

その他

装置開発室施設利用(マテリアル先端リサーチインフラ)は、文部科学省「マテリアル先端リサーチインフラ」事業としての取扱いとなります。 詳細は、ホームページ(https://arim.ims.ac.jp/)をご覧ください。申請者及び本申請における利用者全員は、文部科学省「マテリアル先端リサーチインフラ」事業における共用設備の利用等にあたり、マテリアル先端リサーチインフラ施設及び設備利用約款に承諾していただく必要があります。

 

マテリアル先端リサーチインフラ施設及び設備利用約款
https://arim.ims.ac.jp/wp-content/uploads/contract.pdf