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技術課セミナー「フォトリソグラフィー技術の基礎と応用」
セミナー・イベント詳細
技術課セミナー「フォトリソグラフィー技術の基礎と応用」
演 題 | フォトリソグラフィー技術の基礎と応用 | ||||||||||||||
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日 時 | 2012年03月27日(火) 14:00 | ||||||||||||||
場 所 |
分子科学研究所 岡崎コンファレンスセンター 小会議室 |
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お問い合わせ先 |
青山正樹(分子科学研究所 装置開発室) |
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概 要 | フォトリソグラフィー技術は半導体製造に欠かせない技術で、集積回路の高度化と共に発展し成熟した技術となっています。最近では半導体以外の幅広い分野で微細な構造体の製作に応用されています。装置開発室では従来から取り組んできた機械技術によるマイクロ加工だけでなく、フォトリソグラフィー技術を導入することによりマイクロ加工の技術領域を広げ、マイクロ流体デバイスをはじめとする実験機器の製作を行っています。本セミナーではフォトリソグラフィーの基礎から応用事例、フォトエッチングやPDMSモールディングなどにより製作した研究用実験機器による先端研究についてご講演いただきます。
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その他 | 事前申込は不要です。ご自由にご参加ください。 |